|   | 
四氟化碳
                            - 英文名称:Carbon tetrafluoride
- 型号:1kg
- 货号:13034
- cas:75-73-0
- 发布日期: 2025-03-24
- 更新日期: 2025-05-28
产品详请
            | 品牌 | |
| 货号 | 13034 | 
| 用途 | |
| 是否危险化学品 | 否 | 
| 包装规格 | 1kg | 
| 别名 | 四氟化碳 | 
| CAS编号 | 75-73-0 | 
| 纯度 | 99 | 
| 产地/厂商 | |
| 是否进口 | 否 | 
                中文名称:四氟甲烷
中文别名:四氟化碳
CAS No:75-73-0
EINECS号:200-896-5
分子式:CF4
沸点:-128 oC
折射率:1.113 (-53 C)
密度:3.04 (vs air)
外观无色气体
用途:1.用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺,也用作激光气体,用于低温制冷剂、溶剂、润滑剂、绝缘材料、红外检波管的冷却剂。 2.是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体,四氟甲烷高纯气及四氟甲烷高纯气、高纯氧的混合气,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池生产..
安全说明:38
危险品运输编号:UN 1982
            
        中文别名:四氟化碳
CAS No:75-73-0
EINECS号:200-896-5
分子式:CF4
沸点:-128 oC
折射率:1.113 (-53 C)
密度:3.04 (vs air)
外观无色气体
用途:1.用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺,也用作激光气体,用于低温制冷剂、溶剂、润滑剂、绝缘材料、红外检波管的冷却剂。 2.是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体,四氟甲烷高纯气及四氟甲烷高纯气、高纯氧的混合气,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池生产..
安全说明:38
危险品运输编号:UN 1982

 
     
            
            
            
              
              
             