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二氟化氙
- 英文名称:XENON DIFLUORIDE
- 型号:1kg
- 货号:18690
- 纯度:99
- cas:13709-61-0
- 发布日期: 2025-03-25
- 更新日期: 2025-04-28
产品详请
品牌 | |
货号 | 18690 |
用途 | |
是否危险化学品 | 否 |
包装规格 | 1kg |
别名 | 四氟化氙 |
CAS编号 | 13709-61-0 |
纯度 | 99 |
产地/厂商 | |
是否进口 | 否 |
中文名称:二氟化氙
中文别名:四氟化氙
CAS No:13709-61-0
EINECS号:237-260-1
分子式:F2Xe
沸点:115.73°C (estimate)
密度:4.32?g/mL?at 25?°C(lit.)
用途:1、制备一种二氟化氙气相刻蚀阻挡层,包括如下步骤:(1)将二氟化氙气体喷洒到裸露的阻挡层的表面;(2)采用光束仅照射电介质层上表面的阻挡层,使电介质层上表面的阻挡层的刻蚀速率高于沟槽和连接孔侧壁上的阻挡层的刻蚀速率。本发明通过向电介质层上表面的阻挡层照射光束,提高了电介质层上表面的阻挡层的刻蚀速率,使电介..
安全说明:17-26-28-36/37/39-45
危险品运输编号:UN 3087 5.1/PG 2
中文别名:四氟化氙
CAS No:13709-61-0
EINECS号:237-260-1
分子式:F2Xe
沸点:115.73°C (estimate)
密度:4.32?g/mL?at 25?°C(lit.)
用途:1、制备一种二氟化氙气相刻蚀阻挡层,包括如下步骤:(1)将二氟化氙气体喷洒到裸露的阻挡层的表面;(2)采用光束仅照射电介质层上表面的阻挡层,使电介质层上表面的阻挡层的刻蚀速率高于沟槽和连接孔侧壁上的阻挡层的刻蚀速率。本发明通过向电介质层上表面的阻挡层照射光束,提高了电介质层上表面的阻挡层的刻蚀速率,使电介..
安全说明:17-26-28-36/37/39-45
危险品运输编号:UN 3087 5.1/PG 2